SK하이닉스 차세대 공정 반도체 기술 ‘HKMG’ 유출로 수천억 손실…중국인 직원 체포 수사중

이구기자 | 기사입력 2024/05/29 [09:59]
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경제
SK하이닉스 차세대 공정 반도체 기술 ‘HKMG’ 유출로 수천억 손실…중국인 직원 체포 수사중
기사입력: 2024/05/29 [09:59]   위클리시사
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이구기자

SK하이닉스 차세대 공정 반도체 기술 ‘HKMG’ 유출로 수천억 손실…중국인 직원 체포 수사중

  © 운영자




 

SK 하이닉스 중국 법인의 현지 직원이 반도체 공정 기술을 빼돌린 혐의로 국내에서 체포돼 재판을 받고 있는 것으로 확인됐다.

 

국가핵심기술로도 지정된 신기술이 대거 유출된 건데, SK하이닉스의 대처가 부실했다는 지적이다.

 

2022년 세계 최초로 모바일용 D램에 하이케이메탈게이트, 이른바 HKMG라는 공정을 적용했다.

 

누설 전류를 막아 전력 소모를 최소화해, 차세대 공정으로 꼽힌다.

 

그런데 같은 해 6월, SK하이닉스 중국 법인에서 이 공정 관련 기술이 중국 업체에 유출된 정황이 뒤늦게 드러났다.

 

유출자는 당시 중국 법인에서 일하던 중국 국적의 30대 여성, 고객상담실의 책임자급 직원이었다.

 

HKMG 관련 자료를 출력해 유출한 혐의를 받는데, USB를 통해 자료를 빼낼 수 없자 3천 장을 인쇄해 챙겼다.

 

당시, 이 직원은 이미 중국기업 화웨이의 반도체 자회사인 '하이실리콘'에 이직하기로 정해졌다.

 

이 직원은 이후 하이실리콘에서 실제 근무했는데 별다른 사법 조치가 없자 지난달 우리나라에 다시 입국했다 공항에서 경찰에 체포됐다.

 

하지만 이미 유출시점으로부터 2년이란 시간이 지나 실제로 중국 기업에 자료가 넘어갔는지, 배후가 있었는지 수사가 쉽지 않은 상황으로 전해졌다.

 

검찰은 이달 초 자료 유출 혐의로 구속기소했는데 해당 직원은 범행을 부인하는 것으로 전해졌다.

 

SK하이닉스는 "유출 사실을 인지하는 대로 수사기관에 신고했고, 수사와 재판에 적극 협조하며 상황을 지켜보고 있다"고 밝혔습니다.

 

 SK하이닉스가 유출 정황을 파악한 건 이 직원이 사표를 낸 뒤 였으며 내부 점검과정에서 이런 사실을 확인한 건데 후속 대응은 부실했다.

 

사표를 내러 한국에 들어왔던 해당 직원에 대해 회사가 자체 조사를 시작하자 직원은 중국으로 출국해버렸다.

 

수사기관 신고가 더 빨랐어야 한다는 지적이 나온다.

 

 

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